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溅射参数对Fe-Si化合物的相形成及结构的影响
引用本文:张晋敏,谢泉,梁艳,曾武贤.溅射参数对Fe-Si化合物的相形成及结构的影响[J].四川师范大学学报(自然科学版),2008,31(5).
作者姓名:张晋敏  谢泉  梁艳  曾武贤
作者单位:贵州大学,电子科学与信息技术学院,贵州,贵阳,550025
基金项目:教育部留学回国人员科研启动基金,贵州省自然科学基金,贵阳市科技局大学生创业科技项目 
摘    要:对直流磁控溅射方法制备Fe—Si化合物的工艺过程进行了研究.首先通过改变溅射气压,溅射功率和Ar气流量,在Si(100)衬底上沉积约100nm纯金属Fe膜,随后在真空退火炉中800℃长时间退火形成Fe—si化合物.由X射线衍射(XRD)对所形成的Fe—Si化合物的物相和晶体结构进行分析,给出了一组最优化的溅射工艺参数:溅射Ar气压1.5Pa,溅射功率100W,溅射Ar气流量20SCCM.

关 键 词:磁控溅射  溅射参数  Fe—Si化合物  X-射线衍射  晶体结构

The Influences of Sputtering Parameters on Formation and Structure of Fe-Si Compounds
ZHANG Jin-min,XIE Quan,LIANG Yan,ZENG Wu-xian.The Influences of Sputtering Parameters on Formation and Structure of Fe-Si Compounds[J].Journal of Sichuan Normal University(Natural Science),2008,31(5).
Authors:ZHANG Jin-min  XIE Quan  LIANG Yan  ZENG Wu-xian
Abstract:
Keywords:
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