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溅射沉积InP薄膜的研究
引用本文:黎锡强.溅射沉积InP薄膜的研究[J].应用科学学报,1987,5(1):66-71.
作者姓名:黎锡强
作者单位:中国科学院上海冶金研究所
摘    要:本文报道了以射频溅射仪溅射沉积非晶态InP薄膜.并用X光衍射法、反射电子衍射怯、扫描电镜、红外分光光度计及俄歇能谱仪等研究了薄膜结构、貌相、组分及吸收边光谱等.并与富In的InP多晶薄膜作比较.

收稿时间:1984-05-06
修稿时间:1984-12-26

RF SPUTTERING OF InP FILMS
LI XIQIANG.RF SPUTTERING OF InP FILMS[J].Journal of Applied Sciences,1987,5(1):66-71.
Authors:LI XIQIANG
Institution:Shanghai Institute of Metallurgy, Academia Sinica
Abstract:The present paper is a report on the deposition of InP films on different substrates by sputtering. Using SEM, AES, X-ray diffractions, RED and infrared spectrophotometer, we have studied the topography, composition, crystal orientation, absorption edge spectrum etc.
Keywords:
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