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| 高气压磁控溅射中较高功率对沉积速率的影响 | |
| 作者姓名： | 高源 |
| 作者单位： | 河南师范大学物理与电子工程学院 河南新乡 453007 |
| 摘 要： | 本文拟研究在磁控溅射中,在高气压、高溅射功率范围内,不同的溅射功率对沉积速率的影响.实验采用磁控溅射法制备锌薄膜,应用控制变量法,在其它条件相同的条件下,对于70-200W的6个不同的溅射功率,制备6个锌薄膜,然后分别测其膜厚,并算出沉积速率.本文经过分析,得出在高气压,高溅射功率范围内,随溅射功率增加沉积速率变小,并且两者呈线性关系的结论. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 高气压 高溅射功率 沉积速率 线性回归 |
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