| 非平衡磁控溅射掺Cr类石墨镀层的结构分析 |
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| 引用本文： | 严少平,蒋百灵,张永宏,陈迪春,李洪涛. 非平衡磁控溅射掺Cr类石墨镀层的结构分析[J]. 安徽理工大学学报(自然科学版), 2009, 29(4): 71-76 |
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| 作者姓名： | 严少平 蒋百灵 张永宏 陈迪春 李洪涛 |
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| 作者单位： | 安徽理工大学理学院,安徽,淮南,232001;西安理工大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710048;西安理工大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710048 |
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| 基金项目： | 安徽省教育厅自然科学基金，国家863科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 采用非平衡磁控溅射离子镀技术,通过调节Cr靶的溅射功率,在单晶硅基片上沉积制备了一系列不同Cr含量的类石墨(Cr-GLC)镀层样品.利用Raman光谱仪、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子电镜(TEM)、显微硬度计分析了Cr-GLC的微观结构和显微硬度.结果表明,利用非平衡磁控溅射得到的Cr-GLC镀层,随Cr含量的增高,硬度逐渐降低并趋于稳定.当Cr含量小于4%时,Cr只以单质非晶态分布于非晶GLC中,Cr的掺杂降低了内应力;当Cr含量超过4%后,还有CrCx纳米晶存在于非晶态的GLC中;镀层由C、Cr和CrCx纳米晶粒组成非晶结构.
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| 关 键 词： | 类石墨镀层 微观结构 显微硬度 |
Analysis of Structure of Cr-doped GLC Coatings Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering |
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| YAN Shao-ping,JIANG Bai-ling,ZHANG Yong-hong,CHEN Di-chun,LI Hong-tao. Analysis of Structure of Cr-doped GLC Coatings Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering[J]. Journal of Anhui University of Science and Technology:Natural Science, 2009, 29(4): 71-76 |
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| Authors: | YAN Shao-ping JIANG Bai-ling ZHANG Yong-hong CHEN Di-chun LI Hong-tao |
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