| 脉冲电流法电解精炼铜的可行性研究 |
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| 引用本文： | 鲁道荣,何建波,李学良,胡惠媛. 脉冲电流法电解精炼铜的可行性研究[J]. 合肥工业大学学报(自然科学版), 2001, 24(6): 1053-1056 |
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| 作者姓名： | 鲁道荣 何建波 李学良 胡惠媛 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学化工学院,安徽,合肥,230009 |
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| 基金项目： | 安徽省自然科学基金资助项目 ( 986 2 5 2 48) |
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| 摘 要： | 文章介绍实验模拟铜电解精炼的工业生产条件 ,在小型电解槽中研究脉冲电流法电解精炼铜的可行性 ,并用 XRD、SEM及等离子体质谱仪研究杂质对阴极铜沉积的结构和组成的影响。研究表明 ,当电解温度为 6 0℃时 ,脉冲电解较适宜的工艺条件为 :峰电流密度 396 0 A/ m2 ,脉冲宽度 0 .5 m s,脉冲频率 333Hz,占空比 1∶ 5。添加剂用量 :Cl-3.0 m g/ dm3 ,( N H2 ) 2 CS 0 .75～ 1.0 mg/ dm3 ,glue 1.0～ 1.5 m g/ dm3 。电解液中有害杂质容许量 :As5+ ≤ 2 .0 g/ dm3 ,Sb3 + ≤ 0 .2 0 g/ dm3 ,Bi3 + ≤ 0 .10 g/ dm3。测试结果表明 ,当电解液中不含杂质时 ,铜沉积的晶面择优取向为 ( 2 0 0 ) ,结晶形态为层状 ;电解液中含杂质时 ,铜沉积的晶面择优取向为 ( 2 2 0 ) ,结晶形态为层状 +块状。
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| 关 键 词： | 铜电解精炼 脉冲电流法 结晶形态 晶面择优取向 铜沉积表面状况 |
| 文章编号： | 1003-5060(2001)06-1053-04 |
| 修稿时间： | 2001-07-20 |
Study of the copper electrorefining feasibility by pluse current electrolysis |
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| LU Dao rong,HE Jian bo,LI Xue liang,HU Hui yuan. Study of the copper electrorefining feasibility by pluse current electrolysis[J]. Journal of Hefei University of Technology(Natural Science), 2001, 24(6): 1053-1056 |
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| Authors: | LU Dao rong HE Jian bo LI Xue liang HU Hui yuan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | copper electrorefining pluse current method crystal formation preferred orientation surface condition of deposited copper |
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