| Ar在4.5～12nm光电离截面的测量 |
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| 引用本文： | 霍同林,周洪军,钟鹏飞,蒋新亭.Ar在4.5～12nm光电离截面的测量[J].中国科学技术大学学报,2007,37(4):522-524. |
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| 作者姓名： | 霍同林 周洪军 钟鹏飞 蒋新亭 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽合肥,230029 |
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| 摘 要： | 利用双收集板电离室作为吸收池研究了Ar在4．5～12nm波段的吸收截面．在5～12nm波段间，实验测得的光电离截面的相对误差范围在±10％以内，与West和Samson等的测量结果有很好的可比性．
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| 关 键 词： | 同步辐射 光电离截面 |
| 文章编号： | 0253-2778（2007）04＆05-0522-03 |
| 修稿时间： | 2006-12-252007-04-13 |
Measurement of photoionization cross section of Ar between 4.5 and 12 nm |
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| HUO Tong-lin,ZHOU Hong-jun,ZHONG Peng-fei,JIANG Xin-ting.Measurement of photoionization cross section of Ar between 4.5 and 12 nm[J].Journal of University of Science and Technology of China,2007,37(4):522-524. |
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| Authors: | HUO Tong-lin ZHOU Hong-jun ZHONG Peng-fei JIANG Xin-ting |
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| Institution: | National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei 230029, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ar |
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