脉冲N离子束轰击对TiAIN膜层耐磨性的影响

本文采用俄罗斯UVN0．5D21脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材_b_~TiAIN膜层。研究了膜层沉积过程中,脉冲N离子束轰击对TiAIN膜层耐磨性的影响。研究结果表明：N离子束轰击能量为0keV时,磨损初期TiAIN膜层的摩擦系数为0．3;磨损时间为70111in时,膜层的摩擦系数突然增加,膜层全部脱落,部分基材已经被磨损,摩擦系数为0．6。轰击能量为7．5keV时,磨损初期TiAlN膜层的摩擦系数为0．13;磨损时间为150min时,膜层表面没有出现脱落现象,有部分很浅的磨裹,膜层的摩擦系数为0．25。