| HIPIB烧蚀等离子体沉积DLC薄膜结构及性能 |
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| 引用本文： | 梅显秀,徐卫平,马腾才,谭畅.HIPIB烧蚀等离子体沉积DLC薄膜结构及性能[J].大连理工大学学报,2004,44(4):469-473. |
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| 作者姓名： | 梅显秀 徐卫平 马腾才 谭畅 |
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| 作者单位： | 大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024;大连理工大学,材料工程系,辽宁,大连,116024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(重点项目19835030). |
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| 摘 要： | 利用强流脉冲离子束(HIPIB)烧蚀等离子体在Si(100)基体上快速沉积类金刚石(DLC)薄膜．电压为250keV，柬流密度为250A／cm^2，脉宽为70ns的离子柬(主要由碳离子和氢离子组成)聚焦到石墨靶材上．使石墨充分电离产生稠密的烧蚀等离子体，在石墨靶的法线方向的Si基体上沉积出非晶的DLC薄膜，基片温度选择25℃和100℃,XPS分析显示DLC薄膜中sp^3C的含量达到40％．扫描电镜和原子力显微镜分析得知薄膜表面比较光滑，100℃时沉积的DLC薄膜的表面更光滑，表面粗糙度为0．927nm，其摩擦因数为O．10；TEM分析表明DLC薄膜的相结构是非晶的；X射线衍射分析得出薄膜的宏观残余应力为压应力，其大小约为4GPa．
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| 关 键 词： | 强流脉冲离子束 类金刚石薄膜 结构 性能 |
| 文章编号： | 1000-8608(2004)04-0469-05 |
Structure and properties of diamond-like carbon films prepared by high-intensity pulsed-ion-beam ablation deposition |
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| MEI Xian-xiu.Structure and properties of diamond-like carbon films prepared by high-intensity pulsed-ion-beam ablation deposition[J].Journal of Dalian University of Technology,2004,44(4):469-473. |
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| Authors: | MEI Xian-xiu |
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| Institution: | MEI Xian-xiu~ |
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| Keywords: | HIPIB DLC film structure property |
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