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| 高温后退火对薄膜太阳能电池光电性能的影响 | |
| 引用本文： | 李志锋,郭宏亮,周雨薇,王强,章国安,张竹青.高温后退火对薄膜太阳能电池光电性能的影响[J].南通大学学报(自然科学版),2012,11(4):7-12. |
| 作者姓名： | 李志锋 郭宏亮 周雨薇 王强 章国安 张竹青 |
| 作者单位： | 1. 南通大学杏林学院,江苏南通226007 江苏综艺光伏有限公司,江苏南通226376 2. 南通大学杏林学院,江苏南通,226007 3. 南通大学电子信息学院,江苏南通,226019 4. 南通大学机械工程学院,江苏南通,226019 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目，南通市重大科技创新专项，南通市应用研究计划项目，江苏省高等学校大学生实践创新训练计划项目 |
| 摘 要： | 应用SILVACO仿真软件,对N、P区杂质浓度分别为1×1016和1×1017cm-3的非晶硅薄膜太阳能电池进行了后退火工艺仿真研究.结果表明:非晶硅薄膜太阳能电池的光谱响应特性随着后退火温度的升高和退火时间的增加而提高.与未后退火电池相比,保持后退火时间1 min,退火温度分别为900,950和1 000℃时,电池的短路电流(Isc)增加约5.39%;保持后退火温度为950℃,退火时间从1 min增加到5 min,电池的短路电流(Isc)提高约6.37%.但是,电池的光谱响应特性的提高与后退火工艺参数不成正比关系.为了减小后退火对电池杂质再分布的影响,确定最佳后退火工艺参数为950℃和4 min.研究表明在薄膜电池的生产中增加后退火工艺可以有效地提高薄膜太阳能电池的光谱响应性能. |
| 关 键 词： | 后退火 非晶硅薄膜太阳能电池 光电性能 光谱响应 |
Effect of Post-Annealing Process on the Amorphous Silicon Thin Film Solar Cell Photoelectric Properties |
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| Authors: | LI Zhi-feng GUO Hong-liang ZHOU Yu-wei WANG Qiang ZHANG Guo-an ZHANG Zhu-qing |
| Institution: | 1.Xinlin College,Nantong University,Nantong 226007,China; 2.ZONEPV(Jiangsu) Co.,Ltd,Nantong 226376,China; 3.School of Electronics and Information,Nantong University,Nantong 226019,China; 4.School of Mechanical Engineering,Nantong University,Nantong 226019,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | post-annealing amorphous silicon thin film solar cell spectrum response photoelectric properties |
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