硅单晶的杂质分布和坩埚沾污率

对于原材料含有多种杂质,石英坩埚对熔硅有沾污,晶体截面和坩埚截面并非常数的情况,分析和计算了拉硅单晶时熔体中杂质浓度的变化和单晶中的杂质分布。理论上必须同时考虑多种杂质的污沾、蒸发和分凝过程。实验测定了硅单晶中电阻率分布,与理论相符合。利用这里提出的分析方法,可以确定出石英坩埚的沾污率,并可粗略估计单晶中各种杂质的分布情况以及原材料所合杂质的情况。并且利用复拉单晶的办法,试验了几种测定坩埚沾污率的方法。各种方法所测得的坩埚沾污率值相近,为(1.0—1.5)×10~(11)硼原子/秒·厘米,相应的石英坩埚硼合量约为10~(-6)克硼/克石英。