| 磁控溅射参数对钛酸锶钡薄膜生长及介电性能的影响 |
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| 引用本文： | 谢晓康,缑园渊,杨佳,边小兵,周剑平.磁控溅射参数对钛酸锶钡薄膜生长及介电性能的影响[J].陕西师范大学学报,2014(5):37-42. |
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| 作者姓名： | 谢晓康 缑园渊 杨佳 边小兵 周剑平 |
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| 作者单位： | 陕西师范大学 物理学与信息技术学院,陕西 西安,710119 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51372148);中央高校基本科研业务费创新团队资助项目(GK201401003) |
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| 摘 要： | 在Pt/Ti/SiO2/Si(110)衬底上利用射频磁控溅射法制备了Ba1-xSrxTiO3(BST)薄膜.基于薄膜的形核理论,研究了成膜时间、衬底温度、溅射功率、溅射气压、氧氩比、退火热处理等参数对薄膜的表面形貌和介电性能的影响.结果表明:在其他溅射参数一定的条件下,薄膜的厚度随溅射时间成指数关系增长;在退火温度600℃下热处理20min薄膜完全晶化;调节衬底温度、溅射功率、溅射气压等参数有助于制备出表面致密、晶粒大小均匀、具有高介电常数和低损耗的BST薄膜.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 钛酸锶钡薄膜 表面形貌 介电性能 |
Effect of RF-magnetron sputtering parameters on the growth and dielectric property of BST thin film |
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| XIE Xiaokang
,
GOU Yuanyuan
,
YANG Jia
,
BIAN Xiaobing
,
ZHOU Jianping.Effect of RF-magnetron sputtering parameters on the growth and dielectric property of BST thin film[J].Journal of Shaanxi Normal University: Nat Sci Ed,2014(5):37-42. |
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| Authors: | XIE Xiaokang GOU Yuanyuan YANG Jia BIAN Xiaobing ZHOU Jianping |
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| Institution: | XIE Xiaokang;GOU Yuanyuan;YANG Jia;BIAN Xiaobing;ZHOU Jianping;College of Physics and Information Technology,Shaanxi Normal University; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF-magnetron sputtering BST thin film Surface morphology dielectric property |
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