| 直流辉光等离子体助进热丝CVD法沉积金刚石薄膜 |
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| 引用本文： | 韩佳宁,赵庆勋,文钦若,辛红丽. 直流辉光等离子体助进热丝CVD法沉积金刚石薄膜[J]. 河北师范大学学报(自然科学版), 2002, 26(1): 48-50 |
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| 作者姓名： | 韩佳宁 赵庆勋 文钦若 辛红丽 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,河北保定071002 |
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| 基金项目： | 河北省自然科学基金资助项目 ( 5 990 91) |
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| 摘 要： | 要用直流辉光等离子体助进热丝CVD的方法，低温（550－620℃）沉积得到晶态金刚石薄膜。经X射线衍射谱扫描电子显微镜及Raman光谱分析表明：稍高气压有利于金刚石薄膜的快速、致密生长。
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| 关 键 词： | 低温生长 金刚石薄膜 直流辉光等离子体助进热丝CVD法 沉积条件 X射线衍射谱 Raman方谱 |
| 文章编号： | 1000-5854(2002)01-0048-03 |
| 修稿时间： | 2001-10-25 |
Study of Diamond Films Grown on Si(100)by Glow Plasma HFCVD |
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| HAN Jia-ning,ZHAO Qing-xun,WEN Qin-ruo,XIN Hong-li. Study of Diamond Films Grown on Si(100)by Glow Plasma HFCVD[J]. Journal of Hebei Normal University, 2002, 26(1): 48-50 |
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| Authors: | HAN Jia-ning ZHAO Qing-xun WEN Qin-ruo XIN Hong-li |
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| Keywords: | CVD low temperature diamond |
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