| Si基片上射频磁控溅射MgF2薄膜的光学常数研究 |
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| 引用本文： | 史守华,何玉平,宋学萍,孙兆奇.Si基片上射频磁控溅射MgF2薄膜的光学常数研究[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2003,26(3). |
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| 作者姓名： | 史守华 何玉平 宋学萍 孙兆奇 |
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| 作者单位： | 安徽大学,物理系,安徽,合肥,230039 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(59972001)，安徽省自然科学基金资助项目(01044901) |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射技术在室温Si基片上制备了厚度分别为25.0nm和60.7nm的MgF2薄膜样品,并用反射式椭偏光谱技术对薄膜的光学常数进行了测试分析。250～830nm光频范围椭偏光谱测量结果表明:随着膜厚增加,MgF2薄膜的光学常数n、k的变化范围减小,平均值增大;MgF2薄膜样品的吸收曲线k在波长λ为270nm和360nm处均出现由通过辐射产生的F心引起的吸收峰。
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 MgF2薄膜 椭偏光谱 光学常数 |
Study of the optical constants of RF magnetron sputtering MgF2 films on Si substrates |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering MgF_2 film spectroscopic ellipsometry optical constants |
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