基于内模控制原理的光电跟踪控制系统设计

跟踪控制系统是光电测量设备实现目标自动跟踪的核心单元。系统设计中采用的控制对象数学模型与实际对象存在机理误差和参数测量误差,采用传统闭环控制法设计时控制器的参数计算依赖于模型参数,导致控制器对实际控制对象的适应能力存在局限。采用内模控制原理(IMC)进行系统设计,可简化控制器参数计算及调试过程,降低系统对控制对象参数的敏感性,改善系统的动态性能。与传统方法设计的系统进行仿真对比表明,基于内模控制原理的跟踪系统具有更强的鲁棒性和更好的模型适应性。