泥岩中的有机质对基于XRD的伊蒙混层结构计算的影响

选择富含有机质的泥岩样品,使用不同方法(过氧化氢、过硫酸钠)去除有机质后进行X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)测试,探讨有机质的存在是否会影响利用XRD进行伊蒙混层矿物结构计算.结果表明:使用过氧化氢去除有机质后得到的XRD图谱变化不大;使用过硫酸钠去除有机质后,XRD图谱中新出现15?;(自然干燥片)和16.7?;(乙二醇饱和片)衍射峰,且伊蒙混层的各特征衍射峰发生不同程度的偏移,经计算发现过硫酸钠处理后的样品中伊蒙混层的膨胀层比例(W_(EXP))远高于控制组(不去除有机质)和过氧化氢处理组.这样的差异可能是因为赋存在蒙脱石层间的有机质使得层间域表现为疏水性,阻碍了水和乙二醇进入层间,故部分蒙脱石层在自然干燥和乙二醇饱和状态下膨胀不显著;过硫酸钠能去除蒙脱石层间的有机质,因而经过硫酸钠处理的蒙脱石膨胀性恢复.