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| 脉冲激光退火中分凝效应对杂质分布影响的理论分析 | |
| 引用本文： | 田人和,卢武星,张官南.脉冲激光退火中分凝效应对杂质分布影响的理论分析[J].北京师范大学学报(自然科学版),1982(3). |
| 作者姓名： | 田人和 卢武星 张官南 |
| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所，北京师范大学低能核物理研究所，扬州师范学院物理系 |
| 摘 要： | 一、引言激光退火是近几年发展起来的新技术.它不但能使离子注入时形成的无定型半导体表面层恢复为单晶,而且可使汽相淀积或溅射在单晶衬底上的非晶或多晶薄层转变为单晶.山于激光退火工艺简单.得到的晶体完整性好,杂质的激活率高,因此它越来越受到广泛重视. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |