| 电子束分布的抽样方法 |
| |
| 引用本文： | 刘军,刘进,施将君.电子束分布的抽样方法[J].清华大学学报(自然科学版),2007,47(Z1):1065-1068. |
| |
| 作者姓名： | 刘军 刘进 施将君 |
| |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院,流体物理研究所,绵阳,621900 |
| |
| 摘 要： | 电子与靶相互作用产生X射线源的正确模拟是精确模拟辐射照相过程的关键。在说明击靶电子束的束斑尺寸和发射度两个重要参数及其相互关系的基础上,给出了轴对称情形下电子束分布为Guass分布、均匀分布(KV分布)和水袋分布(WB)的抽样方法。通过举例说明了这些抽样方法的正确性,而且在实际辐射照相的Monte Carlo模拟中必须考虑电子束的发射度。
|
| 关 键 词： | 电子束 转换靶 抽样 发射度 |
| 文章编号： | 1000-0054(2007)S1-1065-04 |
| 修稿时间： | 2006年10月20 |
Sampling of electron beam distributions |
| |
| LIU Jun,LIU Jin,SHI Jiangjun.Sampling of electron beam distributions[J].Journal of Tsinghua University(Science and Technology),2007,47(Z1):1065-1068. |
| |
| Authors: | LIU Jun LIU Jin SHI Jiangjun |
| |
| Abstract: | Accurate radiographic simulations are needed to simulate X-ray sources produced by interactions between electrons and the conversion target.Two electron beam parameters,the spot size and the emittance,can be used to calculate the samplings of the Guassian,uniform(KV),and water-bag(WB) distributions for phase space coordinates.Examples show that the samplings are correct and the electron beam emittance must be considered for Monte Carlo radiographic simulations. |
| |
| Keywords: | electron beam conversion target sampling emittance |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
