首页
|
本学科首页
官方微博
|
高级检索
全部学科
医药、卫生
生物科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
农业科学
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
历史、地理
语言、文字
文学
艺术
文化、科学、教育、体育
马列毛邓
全部专业
中文标题
英文标题
中文关键词
英文关键词
中文摘要
英文摘要
作者中文名
作者英文名
单位中文名
单位英文名
基金中文名
基金英文名
杂志中文名
杂志英文名
栏目中文名
栏目英文名
DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
CMOS硅外延技术与硅外延片
作者单位:
摘 要:
一、主要技术内容 CMOS硅外延技术主要来源于"九五"国家重点科技攻关计划项目"亚微米、深亚微米CMOS电路用薄层外延硅材料",项目编号为:97-763-01-01.该项目于2000年10月通过了中国科学院组织的科技成果鉴定,是由中国科学院半导体所与中国科学院微电子中心合作攻关完成的.
本文献已被
万方数据
等数据库收录!
设为首页
|
免责声明
|
关于勤云
|
加入收藏
Copyright
©
北京勤云科技发展有限公司
京ICP备09084417号