| 氮化烧成后硅在刚玉氮化硅材料中的赋存形态 |
| |
| 引用本文： | 涂军波,孙加林,洪彦若. 氮化烧成后硅在刚玉氮化硅材料中的赋存形态[J]. 北京科技大学学报, 2005, 27(3): 317-320 |
| |
| 作者姓名： | 涂军波 孙加林 洪彦若 |
| |
| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;河北理工大学材料学院,唐山,063009
2. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
| |
| 摘 要： | 研究了不同温度氮化烧成后,硅在刚玉氮化硅材料中的赋存形态.结果表明:1300℃氮化后,硅的外层包裹着絮状的O'-Sialon;1400℃时,硅颗粒破裂且内部有氮化硅生成;1 500℃时,已没有残留硅保留下来,硅氮化生成了O'-Sialon和氮化硅;1 600℃时,硅氮化完全,其中的杂质相CaO,Fe2O3等富集在一起.
|
| 关 键 词： | 硅 刚玉氮化硅 氮化 赋存形态 氮化烧成 刚玉 硅材料 赋存形态 nitridation composites corundum silicon 富集 杂质相 完全 氮化硅 残留 硅生 破裂 硅颗粒 Sialon 外层 结果 温度 |
| 修稿时间： | 2004-04-30 |
Morphology of silicon in corundum silicon-nitride composites after nitridation |
| |
| Tu Junbo,SUN Jialin,HONG Yanruo. Morphology of silicon in corundum silicon-nitride composites after nitridation[J]. Journal of University of Science and Technology Beijing, 2005, 27(3): 317-320 |
| |
| Authors: | Tu Junbo SUN Jialin HONG Yanruo |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | silicon corundum-silicon nitride nitridation morphology |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
