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改善高频大功率晶体管二次击穿提高fT的特殊设计方法
引用本文:白宏光,葛虹宇.改善高频大功率晶体管二次击穿提高fT的特殊设计方法[J].辽宁大学学报(自然科学版),1996,23(1):61-65.
作者姓名:白宏光  葛虹宇
作者单位:辽宁晶体管厂
摘    要:本文主要讨论改善高频大功率晶体管正偏(电流集中型)二次击穿并以3DA150、3CA150型高频大功率晶体管为例,介绍一种特殊的版图设计方法,使发射结面积得到充分利用,有效地提高了电流容量,消除了大电流时发射极电流集边效应,改善了电流集中型二次击穿,减慢了大电流时β0的衰减程度,从而相应地提高了特征频率fT。

关 键 词:大功率晶体管  二次击穿  特征频率  高频晶体管

A Special Design for Enhance f_T to Inproving Secend Breakdown of High- Frequency-Big Power Transistor
Bai Hongguang,Ge Hongyu.A Special Design for Enhance f_T to Inproving Secend Breakdown of High- Frequency-Big Power Transistor[J].Journal of Liaoning University(Natural Sciences Edition),1996,23(1):61-65.
Authors:Bai Hongguang  Ge Hongyu
Institution:Liaoning Transistor Factory
Abstract:
Keywords:High-frequency-big power transistor  Second breakdown  Current crowding effect  Characteristic frequency f_T  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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