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| 脉冲激光沉积(PLD)晶态4H-SiC薄膜 | |
| 引用本文： | 王玉霞.脉冲激光沉积(PLD)晶态4H-SiC薄膜[J].科学通报,1997,42(2):224-224. |
| 作者姓名： | 王玉霞 |
| 作者单位： | 1 中国科学技术大学材料科学与工程系 合肥 230026 2 中国科学技术大学结构成分分析实验室 合肥 230026 |
| 摘 要： | <正>碳化硅因具有许多独特而优异的物化性能,长期受到广泛重视,特别是作为光电、半导体材料更受到青睐。然而,由于碳化硅制备优质单晶材料的困难,使得其应用受到阻滞。故探索制备大面积高质量晶态碳化硅薄膜的研究成为重要的课题。寻求新的较低温度下制备优质晶态碳化硅薄膜的方法和条件将具有重要意义。 |
| 关 键 词： | 多孔陶瓷 陶瓷膜 制备 热稳定性 |
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