几种金属单质的高分辨像的模拟 |
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引用本文: | 吴世超,韩巧梅,陈伟伦,张红亮,郭润,宋述鹏.几种金属单质的高分辨像的模拟[J].科技资讯,2015,13(11). |
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作者姓名: | 吴世超 韩巧梅 陈伟伦 张红亮 郭润 宋述鹏 |
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作者单位: | 武汉科技大学材料与冶金学院 湖北武汉 430081 |
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基金项目: | 武汉科技大学国家级大学生创新训练项目:“基于动态环境下透射电镜原子级相位衬度模拟像研究” |
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摘 要: | 为了拟合出相对最佳厚度和欠焦量下的相位衬度像并构建初步的金属单质原子量级高分辨结构像的评测程序,该文主要采用Fortran程序并结合高分辨像模拟程序来计算了几种常见金属及其氧化物的高分辨模拟像,分析不同厚度和欠焦量条件下金属铜等结构的高分辨模拟像的衬度变化规律,模拟像厚度范围为1~50nm,欠焦量范围为-30~30nm。
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关 键 词: | 环境变量 高分辨模拟像 欠焦量 |
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