| 基于纳米压印技术制备200nm周期金自支撑透射光栅 |
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| 引用本文： | 袁远,顾艳妮,李志炜,张鉴,袁长胜,葛海雄,陈延峰. 基于纳米压印技术制备200nm周期金自支撑透射光栅[J]. 南京大学学报(自然科学版), 2009, 0(4) |
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| 作者姓名： | 袁远 顾艳妮 李志炜 张鉴 袁长胜 葛海雄 陈延峰 |
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| 作者单位： | 南京大学材料科学与工程系; |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(2007AA03Z334) |
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| 摘 要： | 采用纳米压印技术作为制备亚微米周期光栅图案的核心技术,并结合反应离子刻蚀,电子束蒸镀,微电镀,紫外光刻,湿法刻蚀成功制作了面积为5 mm×8 mm、周期为200 nm、占空比近1∶1的大面积金自支撑透射光栅.首先利用紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀在高分子胶层上复制出石英模板上的纳米光栅结构,然后用微电镀技术制备出金光栅.为了获得具有较深槽深的光栅图形,采用了纳米压印双层胶工艺体系.此工艺利用了纳米压印技术分辨率高、效率高的优点,并且可以制备出剖面陡直、对比度高的高分辨率纳米光栅线条.最后用紫外光刻,微电镀和湿法腐蚀制作出支撑结构,获得金自支撑透射光栅.
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| 关 键 词： | 纳米压印 透射光栅 微电镀 反应离子刻蚀 |
Fabrication of 200nm period gold free-standing transmission gratings based on nanoimprint lithography |
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| Yuan Yuan,Gu Yan-Ni,Li Zhi-Wei,Zhang Jian,Yuan Chang-Sheng,Ge Hai-Xiong,Chen Yan-Feng. Fabrication of 200nm period gold free-standing transmission gratings based on nanoimprint lithography[J]. Journal of Nanjing University: Nat Sci Ed, 2009, 0(4) |
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| Authors: | Yuan Yuan Gu Yan-Ni Li Zhi-Wei Zhang Jian Yuan Chang-Sheng Ge Hai-Xiong Chen Yan-Feng |
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| Affiliation: | Department of Materials Science and Engineering;Nanjing University;Nanjing;210093;China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nanoimprint lithography transmission gratings electroplating reactive ion etching |
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