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PECVD a-SiNx:H的~1H NMR研究
引用本文:翁丽敏,何奕骅,范焕章,许春芳,杨光,邬学文. PECVD a-SiNx:H的~1H NMR研究[J]. 华东师范大学学报(自然科学版), 1998, 0(3)
作者姓名:翁丽敏  何奕骅  范焕章  许春芳  杨光  邬学文
作者单位:华东师范大学电子科学技术系!上海200062(翁丽敏,何奕骅,范焕章,许春芳),华东师范大学分析测试中心!上海200062(杨光,邬学文)
基金项目:国家自然科学基金!19374023
摘    要:用质子核磁共振(1HNMR)方法对等离子体化学气相淀积非晶氢化氮化硅薄膜(PECVD-α-SiNx:H)进行测量,分析膜中H的含量和分布与淀积温度、射频功率等工艺条件的关系,以及退火的影响。

关 键 词:氮化硅  氢原子  核磁共振

~1H NMR Studies of PECVD a-SiNx:H
Weng Limin,He Yihua,Fan Huanzhang,Xu Chunfang. ~1H NMR Studies of PECVD a-SiNx:H[J]. Journal of East China Normal University(Natural Science), 1998, 0(3)
Authors:Weng Limin  He Yihua  Fan Huanzhang  Xu Chunfang
Abstract:
Keywords:silicon nitride hydrogen nuclear magnetic resonance(NMR)
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