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| 高反射率Ag_5In_5Te_(47)Sb_(33)相变薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化 | |
| 引用本文： | 刘惠勇,姜复松,门丽秋,范正修,干福熹.高反射率Ag_5In_5Te_(47)Sb_(33)相变薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化[J].科学通报,1998(16). |
| 作者姓名： | 刘惠勇 姜复松 门丽秋 范正修 干福熹 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所!上海201800 |
| 摘 要： | 对磁控射频溅射法制备的Ag5 In5 Te47Sb3 3 相变薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化进行了研究 .沉积态薄膜为非晶态 ,其晶化温度为 1 6 0℃ .晶态薄膜中产生了立方晶态相AgInTe2 和AgSbTe2 及单质Sb ,2 2 0℃退火薄膜中AgSbTe2 相含量最大 .晶态薄膜的反射率高于沉积态 ,并且 2 2 0℃退火的晶态薄膜反射率最大 .2 2 0℃退火薄膜为直径约 30nm的球状AgSbTe2 相和短棒状Sb相 . |
| 关 键 词： | 磁控溅射 Ag_5In_5Te_(47)Sb_(33)相变薄膜 CD_E系统 热致相变 光学性质 |
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