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掺Er的In1—xGaxP的光致发光性能
作者姓名:张喜田 李德敏
摘    要:金属有机化学气相淀积用于制备掺Er的In1xGaxP外延层。低温下,研究了温度与光致发光性质的关系作为合金成分的函数,其中合金成分为x=0-0.98,发现所有掺Er的In1-xGaxP外延层都在0.801eV处有一上强光致发光峰,与合金成分无关,295K时观测到In0.52Ga0.48P样品的Er^3+离子的光致发光特征峰,发光强度明显降低。

关 键 词:铒 光致发光 化合物半导体 MOCVD Ⅲ-Ⅴ族化合物
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