| Al/Ti对磁控溅射TiAlN膜层结构、硬度和摩擦性能的影响 |
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| 作者姓名： | 王新 李德元 金浩 陈勇 张罡 |
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| 作者单位： | 沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳工业大学 材料科学与工程学院 沈阳理工大学 装备工程学院,成都晋林机械制造有限公司,沈阳理工大学 材料科学与工程学院 |
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| 基金项目： | 辽宁省教育厅重点实验室基础研究资助项目(LZ2014013). |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射技术在炮钢基材表面制备不同Ti靶电流的TiAlN膜层。利用激光共聚焦、X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪、多功能材料表面性能测试仪、蔡司显微镜等检测方法,研究不同Al/Ti对TiAlN膜层的粗糙度,相结构、纳米硬度、摩擦性能的影响。结果表明:磁控溅射沉积TiAlN膜层光滑致密,无大液滴,以TiN(200)、(220)为主相择优生长。Al/Ti比值为1.32时,薄膜硬度处于峰值区,纳米硬度最高可达19GPa。Al/Ti比值为0.87时硬度略微降低,但表面粗糙度最小为0.029μm,摩擦系数保持稳定最低为0.4723左右。Al/Ti比值为0.87时,表现出较好的抗磨损性能。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 炮钢 TiAlN膜层 液滴 表面粗糙度 相结构 纳米硬度 摩擦系数 |
| 收稿时间： | 2016-06-02 |
| 修稿时间： | 2016-10-28 |
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