| 金刚石膜微结构分析 |
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| 引用本文： | 刘存业,王跃,陈建勇.金刚石膜微结构分析[J].西南师范大学学报(自然科学版),2003,28(2):227-229. |
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| 作者姓名： | 刘存业 王跃 陈建勇 |
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| 作者单位： | 1. 西南师范大学,物理学系,重庆,400715;西南师范大学,现代物理研究所,重庆,400715
2. 西南师范大学,物理学系,重庆,400715 |
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| 摘 要： | 对在Si(100)基底上利用化学汽相沉积(CVD)法制备的金刚石膜，采用X—射线衍射(XRD)技术和正电子湮没谱学(PAS)原理进行了有关物相成分和微结构的测量分析．研究发现，在金刚石膜中微观缺陷的产生取决于薄膜生长过程的控制和基底表面局域生长环境的条件差异．结果表明，金刚石膜体和表面的结晶、微晶和非晶结构与正电子谱分析的3种正电子态相符合．
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| 关 键 词： | 金刚石膜 微结构 物相成分 正电子态 X—射线衍射技术 正电子湮没谱学 结晶结构 非晶结构 |
| 文章编号： | 1000-5471(2003)02-0227-03 |
| 修稿时间： | 2002年9月2日 |
Microstructural Studies of the Diamond Films |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond film X-ray diffraction positron annihilation spectroscopy |
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