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纳米SnO_2薄膜的制备、结构和性能研究
引用本文:李明华,宋淑芳,季秉厚. 纳米SnO_2薄膜的制备、结构和性能研究[J]. 内蒙古大学学报(自然科学版), 2000, 0(4)
作者姓名:李明华  宋淑芳  季秉厚
作者单位:内蒙古大学物理学系!内蒙古呼和浩特,010021,北京科技大学材料物理系,北京100083,内蒙古大学物理学系!内蒙古呼和浩特010021,内蒙古大学物理学系!内蒙古呼和浩特010021
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:在真空度为 1 3 3 .3μPa时 ,用真空气相沉积方法在玻璃衬底上沉积 Sn O2 薄膜 .通过XRD、SEM等测试分析 ,研究了杂质掺杂及热处理前后的 Sn O2 薄膜的结构、晶粒尺寸、电学特性以及不同工艺条件对薄膜性能的影响 .结果表明 ,掺 Bi有效地抑制了晶粒生长 ,提高了薄膜的稳定性 .掺 Bi后 ,薄膜的电学特性增强 ,而掺 In、Cd则影响不大 .

关 键 词:纳米SnO_2薄膜  制备  结构  性能

Studies of the Preparation,Structure and Properties of the Nano-SnO_2 Thin Films
LI Minghua ,,SONG Shufang,JI Binghou. Studies of the Preparation,Structure and Properties of the Nano-SnO_2 Thin Films[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Neimongol, 2000, 0(4)
Authors:LI Minghua     SONG Shufang  JI Binghou
Affiliation:LI Minghua 1,2,SONG Shufang1,JI Binghou1
Abstract:
Keywords:Nano-SnO_2 thin films  preparation  structure  properties
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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