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钼保护膜的低温蒸镀法

作者姓名：	张建康

摘要：	日本京都大学工学部工业化学科渡边信淳教授研制成功了一种采用六氟化钼的化学蒸镀(CVD)法,在500～650℃低温下制取有金属光泽、优质钼保护膜的方法。由于钼具有熔点高、耐腐蚀性强的优点,所以,
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