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氧化钨制备及其光催化性能提高的研究进展
引用本文:高明,王钰,戚克振.氧化钨制备及其光催化性能提高的研究进展[J].沈阳师范大学学报(自然科学版),2023(1):2-6.
作者姓名:高明  王钰  戚克振
作者单位:1. 沈阳师范大学物理科学与技术学院;2. 大理大学药学院
基金项目:辽宁省教育厅科学研究经费项目(LJKZ0997);
摘    要:WO3基光催化剂的研究在世界范围内受到了广泛的关注,尤其是在环境修复和能源生产领域。WO3的禁带宽度为2.5~2.7 eV,在可见光范围内是制备各种光催化剂的潜在候选材料。作为地球上丰富的金属氧化物,WO3显示出优异的光电特性及较高的稳定性。此外,它还具有无毒性、生物相容性、低成本、优异的空穴迁移率和可调的带隙等特点。综述了提高WO3基纳米复合材料光催化性能的一些常见策略,如控制形貌、负载贵金属、构建异质结、形成碳基纳米复合材料等。此外,还总结了WO3基纳米复合材料所面临的挑战和未来发展前景。

关 键 词:WO3  光催化  形貌  表面改性  应用
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