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TiN/AlN纳米混合膜的微结构及力学性能
引用本文:李戈扬,施晓蓉,辛挺辉,吴亮,李鹏兴. TiN/AlN纳米混合膜的微结构及力学性能[J]. 上海交通大学学报, 1999, 33(2): 162-164
作者姓名:李戈扬  施晓蓉  辛挺辉  吴亮  李鹏兴
作者单位:上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 200030
摘    要:通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了TiN/AlN纳米混合膜.采用XRD衍射、TEM和显微硬度等测试方法对TiN/AlN纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究.结果表明,TiN/AlN纳米混合膜的晶粒大小为10~20nm;薄膜总体表现出硬度增强效果,在TiN∶AlN(体积比)≈1∶1时,薄膜硬度获得极大值HK32.25GPa.

关 键 词:纳米薄膜;磁控溅射;硬度
修稿时间:1998-02-26

Microstructure and Mechanical Properties of TiN/AlN Nano Granular Thin Films
Li Geyang,Shi Xiaorong,Xin Tinghui,Wu Liang,Li Pengxing. Microstructure and Mechanical Properties of TiN/AlN Nano Granular Thin Films[J]. Journal of Shanghai Jiaotong University, 1999, 33(2): 162-164
Authors:Li Geyang  Shi Xiaorong  Xin Tinghui  Wu Liang  Li Pengxing
Abstract:
Keywords:nano granular thin films  magnetron sputtering  hardness  
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