| 脉冲激光沉积(PLD)铜薄膜过程的模拟研究 |
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| 引用本文： | 段章山,李润玲,王永仓,刘婧. 脉冲激光沉积(PLD)铜薄膜过程的模拟研究[J]. 空军工程大学学报(自然科学版), 2006, 7(4): 85-88 |
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| 作者姓名： | 段章山 李润玲 王永仓 刘婧 |
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| 作者单位： | 空军工程大学,理学院,陕西,西安,710051;空军工程大学,理学院,陕西,西安,710051;西北工业大学,理学院,陕西,西安,710072;河海大学,计算机及信息工程学院,常州,213022 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;西北工业大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 通过对PLD技术中的等离子体的产生及传播理论的分析，对等离子体的传播规律及基片平面上粒子浓度、速度的分布进行了模拟研究；讨论了PLD技术中等离子体的输运机理，为PLD薄膜制备提供了理论参考。
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 铜薄膜 等离子体 模拟研究 |
| 文章编号： | 1009-3516（2006）04-0085-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-30 |
| 修稿时间： | 2005-08-30 |
Simulation of the Process of Pulsed Laser Deposition of Thin Copper Film |
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| DUAN Zhang-shan,LI Run-ling,WANG Yong-cang,LIU Jing. Simulation of the Process of Pulsed Laser Deposition of Thin Copper Film[J]. Journal of Air Force Engineering University(Natural Science Edition), 2006, 7(4): 85-88 |
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| Authors: | DUAN Zhang-shan LI Run-ling WANG Yong-cang LIU Jing |
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| Abstract: | By mathematics and theoretic mode, the process of pulsed laser deposition of thin copper film is studied. The evolvement of plasma generated by the pulsed laser is simulated and based on this the distributions of consistence and velocity are discussed. Moreover, the physics mechanism in the process of pulsed laser deposition is explained. The results obtained are compared with the experiments and other articles. |
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| Keywords: | PLD thin copper film plasma simulated research |
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