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| 脉冲激光沉积（PLD）铜薄膜过程的模拟研究 | |
| 作者姓名： | 段章山 李润玲 王永仓 刘婧 |
| 作者单位： | 空军工程大学,理学院,陕西,西安,710051;空军工程大学,理学院,陕西,西安,710051;西北工业大学,理学院,陕西,西安,710072;河海大学,计算机及信息工程学院,常州,213022 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;西北工业大学校科研和教改项目 |
| 摘 要： | 通过对PLD技术中的等离子体的产生及传播理论的分析,对等离子体的传播规律及基片平面上粒子浓度、速度的分布进行了模拟研究;讨论了PLD技术中等离子体的输运机理,为PLD薄膜制备提供了理论参考。 |
| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 铜薄膜 等离子体 模拟研究 |
| 文章编号： | 1009-3516（2006）04-0085-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-30 |
| 修稿时间： | 2005-08-30 |
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