坡莫合金薄膜的准静态反磁化

一、引言利用克尔磁光效应和毕特粉纹技术的磁畴观测,以及近年发展的电子显微镜方法,前人对具有单轴各向异性的坡莫合金薄膜的准静态反磁化过程已进行了不少的研究。所得结果显示,在实际的坡莫合金薄膜中、反磁化过程并不是按Stoner-Wohlfarth模型的一致转动。实际上,如样品在磁场与易轴作较高角时反磁化,则首先发生“部分转动”,形成“锁住结构”;又电子显微镜的观察表明,即使在场强非常小时,仍会有某些局部的磁化向量发生不可逆转动,与此相联系的有所谓“波结构磁滞”;此外还发现,在某些样品中,当场和易轴间的夹角很高时,也会发生“锁住图案”,Smith认为这是因为样品中存在着“负K区”。由此可见,实际磁膜的反磁化过程是很复杂的。本工作的目的是在前人工作的基础上对坡莫合金薄膜的准静态反磁化过程进行更详细一些的探讨,着重研究锁住结构的性质和它在不同条件下的变化;并将用磁转矩的方法测量样品的波结构磁滞和各