射频磁控反应溅射制备Y2O3薄膜沉积分布的研究 |
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引用本文: | 刘其军,刘正堂,闫锋,李阳平.射频磁控反应溅射制备Y2O3薄膜沉积分布的研究[J].中山大学研究生学刊(自然科学与医学版),2008,29(4). |
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作者姓名: | 刘其军 刘正堂 闫锋 李阳平 |
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作者单位: | 西北工业大学材料学院,西安710072 |
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摘 要: | 金刚石具有高透过率、高热导率、高的化学和热稳定性以及优异的力学性能,是制造高速飞行器红外窗口和头罩的理想材料。然而,在高速飞行时,由于空气动力加热会产生很高的温度,使金刚石迅速发生氧化,导致透过率急剧下降。为此,需要在金刚石表面制备抗氧化增透涂层。本文采用射频磁控反应溅射法制备Y2O3薄膜,观察了薄膜的沉积分布,并通过电磁场理论对沉积分布进行了探讨,结果表明:在腔体内的电场线分布是导致薄膜厚度周期性变化的主要因素。
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关 键 词: | 电场 Y2O3 射频磁控反应溅射 |
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