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| 退火时间对二维DNA晶体自组装的影响 | |
| 作者姓名： | 杨晓红 高传玉 周明 刘长隆 庄立洲 叶日安 AMOAKO George 沈智勇 |
| 作者单位： | 江苏大学光子制造科学技术中心;清华大学摩擦学国家重点实验室 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(2011CB013004);清华大学摩擦学国家重点实验室自主研究重点项目(SKLT10A02)资助 |
| 摘 要： | DNA自组装的过程,不仅需要合适的缓冲液,还需要适当的退火时间.本文利用DNA自组装技术,以反向平行双交叉(double-crossover,DX)DNA分子瓦(DNAtile)作为建筑模块,带有互补黏性末端(sticky-ends)的分子瓦依据Watson-Crick碱基互补配对原则配对连接,成功制备出二维晶体结构.比较不同退火时间下形成的DNA分子瓦结构,采用非变性聚丙烯酰胺凝胶电泳(non-denaturing PAGE)表征.结果表明,退火时间为2.5h时形成的分子瓦的结构较稳定.等量混合此条件下形成的不同分子瓦,分别从50,37和25℃退火至室温,利用原子力显微镜(AFM)对退火后的结构进行表征,结果表明,起始退火温度为37℃时得到的DNA二维晶体较平整. |
| 关 键 词： | DNA自组装 DNA分子瓦 黏性末端 退火时间 DNA二维晶体 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |