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低温ITO薄膜制备及光电特性的研究
引用本文:林钰,李慧灵,王宇婷,辛荣生,贾晓林. 低温ITO薄膜制备及光电特性的研究[J]. 河南教育学院学报(自然科学版), 2010, 19(2): 16-17. DOI: 10.3969/j.issn.1007-0834.2010.02.006
作者姓名:林钰  李慧灵  王宇婷  辛荣生  贾晓林
作者单位:河南教育学院,化学系,河南,郑州,450046;郑州大学,材料工程学院,河南,郑州,450052
摘    要:采用直流磁控溅射ITO陶瓷靶的低温工艺,在柔性基片上镀制ITO薄膜,研究了氧氩体积流量比、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响,并得到了可见光透过率大于80%,电阻率小于3.0×10-4Ω.cm的ITO薄膜.

关 键 词:低温  ITO薄膜  电阻率  透光率

Preparation and photoelectric properties of the Low Temperature ITO Thin Films
LIN Yu,LI Hui-ling,WANG Yu-ting,XIN Rong-sheng,JIA Xiao-lin. Preparation and photoelectric properties of the Low Temperature ITO Thin Films[J]. Journal of Henan Education Institute(Natural Science Edition), 2010, 19(2): 16-17. DOI: 10.3969/j.issn.1007-0834.2010.02.006
Authors:LIN Yu  LI Hui-ling  WANG Yu-ting  XIN Rong-sheng  JIA Xiao-lin
Abstract:
Keywords:
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