| S-枪溅射NiCr薄膜的Monte Carlo模拟 |
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| 引用本文： | 于映,陈跃.S-枪溅射NiCr薄膜的Monte Carlo模拟[J].福州大学学报(自然科学版),1998(1):29-32. |
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| 作者姓名： | 于映 陈跃 |
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| 作者单位： | 福州大学电子科学与应用物理系 |
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| 摘 要： | 对Ｓ－枪溅射ＮｉＣｒ合金薄膜过程采用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ法进行了计算模拟．用靶刻蚀图形作为粒子发射频度函数，采用Ｔｈｏｍｐｓｏｎ能量分布，并考虑了环境气体的热运动，得到沉积粒子的能量、入射角度的分布随溅射工艺参数的变化规律．
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| 关 键 词： | 溅射 MonteCarlo模拟 薄膜 NiCr合金 |
Monte Carlo Simulation of Sputtering NiCr Thin Film with S-Gun |
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| Yu Ying,Chen Yue.Monte Carlo Simulation of Sputtering NiCr Thin Film with S-Gun[J].Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition),1998(1):29-32. |
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| Authors: | Yu Ying Chen Yue |
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| Institution: | Yu Ying Chen Yue (Department of Electronic Science and Applied Physics, Fuzhou University, Fuzhou, 350002) |
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| Keywords: | sputter Monte Carlo simulation thin film NiCr |
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