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浸涂法制备掺锑SnO_2透明导电膜
引用本文:柯琪,程继健. 浸涂法制备掺锑SnO_2透明导电膜[J]. 华东理工大学学报(自然科学版), 1992, 0(Z1)
作者姓名:柯琪  程继健
作者单位:华东化工学院无机材料系,华东化工学院无机材料系
摘    要:以三氯叔丁醇锡和三氯化锑为主的有机-无机溶液,采用垂直浸涂法,在普通Na-Ca-Si系玻璃基片上制备了透明的掺锑SnO_2导电膜。薄膜的主透过波长在480nm附近,膜厚达1.26μm时其透光率约为80%,薄层电阻R_s可低达35Ω。研究表明,预涂SiO_2致密膜对于消除由于界面上Na~+的扩散而造成的电性能下降是有效的。锑的掺杂浓度在Sb/Sn=6%(mol)时膜有最低的R_s值,可见光-远红外透射率随Sb的增加而下降。随膜厚的增加,R_s按指数规律下降,但光吸收增加。膜厚在1.2μm时其光电特性优化因子φ_(T(?))最大。适当提高热处理温度和延长热处理时间,膜中SnO_2主晶相的晶化程度提高,膜的光、电性能可以同时得到改善。

关 键 词:二氧化锡    浸涂法  透明导电膜  掺杂

Preparation of Sb-Doped SnO_2. Transparent Conductive Film by Dip-Coating Method
Ke Qi and Cheng Jijian. Preparation of Sb-Doped SnO_2. Transparent Conductive Film by Dip-Coating Method[J]. Journal of East China University of Science and Technology, 1992, 0(Z1)
Authors:Ke Qi and Cheng Jijian
Affiliation:Department of Inorganic Material
Abstract:
Keywords:tin oxide  antimony  dip coating  transparent conductive film  doping
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