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激光作用下硅靶材的等离子体光谱强度分析
引用本文:刘丽炜,张喜和,金光勇,李昌立.激光作用下硅靶材的等离子体光谱强度分析[J].哈尔滨商业大学学报(自然科学版),2009,25(2).
作者姓名:刘丽炜  张喜和  金光勇  李昌立
作者单位:长春理工大学,理学院,长春,130022
基金项目:吉林省杰出青年科学基金 
摘    要:建立一套激光等离子体光谱测量实验装置,以Nd∶YAG调Q倍频固体激光器为激发光源,硅作为样品.获得了不同激光能量时的硅样品原子辐射谱图,从中提取硅在634 nm处的等离子体谱,分析等离子体谱强度的变化趋势,得到的实验结果与理论分析符合的很好.

关 键 词:激光等离子体  光谱  激光烧蚀

Spectral intensity analysis on silicon induced by laser
LIU Li-wei,ZHANG Xi-he,JIN guang-yong,LI Changli.Spectral intensity analysis on silicon induced by laser[J].Journal of Harbin University of Commerce :Natural Sciences Edition,2009,25(2).
Authors:LIU Li-wei  ZHANG Xi-he  JIN guang-yong  LI Changli
Institution:School of Science;Changchun University of Science and Technology;Changchun 130022;China
Abstract:
Keywords:laser plasma  spectra  laser ablate  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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