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热处理对PZT薄膜织构形成的影响
引用本文:刘翠华,王久石.热处理对PZT薄膜织构形成的影响[J].四川师范大学学报(自然科学版),2008,31(1):114-117.
作者姓名:刘翠华  王久石
作者单位:西华大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610039
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:分别采用传统热处理(CFA)和快速热处理(RTA)对室温溅射在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上的Pb(Zr,Ti)O3 (PZT)进行了晶化处理.结果表明:RTA倾向于形成(111)占优取向,而CFA倾向于形成(100)占优取向.不同工艺条件下的取向选择来源于形核机制的不同.在CFA条件下,形核在薄膜表面的PbO(100) 处发生,导致(100)占优取向;在RTA条件下,形核在基片附近的Pt3Pb(111)/PZT界面处发生,导致(111)占优取向.铁电性能测试表明,由RTA处理得到的具有(111)占优取向的PZT薄膜剩余极化达到35 μC/cm2.

关 键 词:Pb(Zr  Ti)O3  热处理  薄膜取向  铁电性  快速热处理  薄膜表面  织构形成  影响  PZT  Thin  Films  Texture  Formation  Annealing  剩余极化  电性能测试  界面  发生  形核机制  工艺条件  来源  选择  取向  倾向  结果  晶化处理  室温
文章编号:1001-8395(2008)01-0114-04
收稿时间:2006-05-01
修稿时间:2006年5月1日

Effect of Annealing on the Texture Formation in PZT Thin Films
LIU Cui-hua,WANG Jiu-shi.Effect of Annealing on the Texture Formation in PZT Thin Films[J].Journal of Sichuan Normal University(Natural Science),2008,31(1):114-117.
Authors:LIU Cui-hua  WANG Jiu-shi
Abstract:
Keywords:
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