| 脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟 |
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| 引用本文： | 陈中军,张端明,李智华,张美军. 脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟[J]. 华中科技大学学报(自然科学版), 2000, 28(5): 92-94 |
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| 作者姓名： | 陈中军 张端明 李智华 张美军 |
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| 作者单位： | 华中理工大学物理系 |
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| 基金项目： | 华中理工大学激光技术国家重点实验室资助 |
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| 摘 要： | 根据流体力学理论 ,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了模拟 ,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律 .结果表明 ,等离子体在膨胀过程中会形成垂直靶表面的等离子体羽辉 ,当激光束的位置和方向不变时 ,KTN薄膜的厚度分布不均匀 ,呈现类高斯分布形状 ,薄膜的最大厚度与基片和靶材的距离成负二次方关系
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| 关 键 词： | PLD技术 KTN薄膜 等离子体 |
| 修稿时间： | 1999-10-08 |
Simulation of the Dynamics Process of Pulsed Laser Deposition of KTN Thin Film |
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| Chen Zhongjun,Zhang Duanming,Li Zhihua,Zhang Meijun. Simulation of the Dynamics Process of Pulsed Laser Deposition of KTN Thin Film[J]. JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE, 2000, 28(5): 92-94 |
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| Authors: | Chen Zhongjun Zhang Duanming Li Zhihua Zhang Meijun |
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| Affiliation: | Chen Zhongjun Zhang Duanming Li Zhihua Zhang Meijun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PLD technology KTN thin film plasma |
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