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不同厚度三维拓扑绝缘体Sb2Te3的圆偏振光致电流光谱
引用本文:夏丽佳,陈 磊,俞金玲.不同厚度三维拓扑绝缘体Sb2Te3的圆偏振光致电流光谱[J].福州大学学报(自然科学版),2021,49(2):184-187.
作者姓名:夏丽佳  陈 磊  俞金玲
作者单位:福州大学物理与信息工程学院,福建 福州 350108
摘    要:针对观察到厚度为7 nm的三维拓扑绝缘体Sb_2Te_3薄膜的圆偏振光致电流与厚度为30 nm样品的符号相反这一情况,提出进一步利用原子力显微镜表征的方法.利用1 064 nm圆偏振激光的激发,发现30 nm的样品比7 nm的样品具有更大表面粗糙度,从而得到30 nm样品的上表面态对圆偏振光致电流的贡献减小,使其下表面态的贡献占主导;而7 nm的样品为上表面态的贡献占主导,故相比厚度为30 nm的样品出现了反号这一结论.同时利用960 nm激光激发样品,发现厚度为30和7 nm的样品呈现相同的符号,进一步研究表明这个信号可能与InP衬底的自旋注入有关.

关 键 词:三维拓扑绝缘体  Sb2Te3  圆偏振光致电流光谱  表面态

Circular photogalvanic effect spectroscopy of three dimensional topological insulator Sb2Te3 with different thickness
XIA Liji,CHEN Lei,YU Jinling.Circular photogalvanic effect spectroscopy of three dimensional topological insulator Sb2Te3 with different thickness[J].Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition),2021,49(2):184-187.
Authors:XIA Liji  CHEN Lei  YU Jinling
Abstract:
Keywords:
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