| 使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形 |
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| 引用本文： | 齐晶,史峥,林斌,罗凯升.使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形[J].华东理工大学学报(自然科学版),2012,38(3):365-369. |
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| 作者姓名： | 齐晶 史峥 林斌 罗凯升 |
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| 作者单位： | 浙江大学超大规模集成电路设计研究所,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 国家“十一五”高端通用芯片科技重太专项(2008ZX01035-001-06) |
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| 摘 要： | 在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学邻近校正流程结合,该方法能解决工艺窗口过小和亚分辨率辅助图形刻出等问题。通过对标准电路版图的测试,对边放置误差和工艺窗口进行了测量。边放置误差相比传统方法减小了10%,同时,不同工艺窗条件下的边放置误差也有改善。
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| 关 键 词： | 可制造性设计 光刻 亚分辨率辅助图形 光学邻近校正 |
Optimizing Sub-resolution Assist Features Using Test Pattern Method |
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| QI Jing,SHI Zheng,LIN Bin,LUO Kai-sheng.Optimizing Sub-resolution Assist Features Using Test Pattern Method[J].Journal of East China University of Science and Technology,2012,38(3):365-369. |
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| Authors: | QI Jing SHI Zheng LIN Bin LUO Kai-sheng |
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| Institution: | (Institute of Very Large Scale Integrated Circuits Design,Zhejiang University, Hangzhou 310027,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | design for manufaeturability (DFM) lithography sub-resolution assist features (SRAF) optical proximity correction (OPC) |
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