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射频溅射a—Si:H的光致发光光谱
引用本文:林再民,丁小宁,彭少麒.射频溅射a—Si:H的光致发光光谱[J].中山大学学报(自然科学版),1986(2).
作者姓名:林再民  丁小宁  彭少麒
作者单位:中山大学物理学系 (林再民,丁小宁),中山大学物理学系(彭少麒)
摘    要:在非晶硅a-Si∶H 中,由于长程无序性以及悬键、杂质缺陷的存在,使其迁移率隙中存在一定的局域态.这些态对材料的电学和光学性质均有很大的影响.光致发光谱能简易地提供有关局域态密度及其分布的很多有用信息,是研究非晶硅的一种很好的手段.另一方面,衬底温度是制备SP-a-Si∶H 的一个十分重要的工艺参数.本实验目的是研究SP-a-Si∶H 的光致发光特性,着重探讨衬底温度及退火对该特性的影响.

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