| 电沉积纳米金属多层膜研究 |
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| 引用本文： | 姚素薇,桂枫,等.电沉积纳米金属多层膜研究[J].天津大学学报(自然科学与工程技术版),2001,34(2):261-264. |
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| 作者姓名： | 姚素薇 桂枫 |
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| 作者单位： | 姚素薇（天津大学化工学院，天津 300072）
桂枫（天津大学化工学院，天津 300072）
张卫国（天津大学化工学院，天津 300072）
冯钊永（天津大学化工学院，天津 300072）
窦升鹏（天津大学化工学院，天津 300072） |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu/Ni多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件，并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜（SEM）确定镀层结构。通过对比，分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点。
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| 关 键 词： | 电沉积 金属多层膜 纳米结构 铜／镍多层膜 单槽法 双槽法 组分调制合金 |
| 文章编号： | 0493-2137（2001）02-0261-04 |
| 修稿时间： | 1999年12月15 |
STUDY ON ELECTRODEPOSITING
NANOSTRUCTURE MULTILAYERS |
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| YAO Su-wei,GUI Feng,ZHANG Wei-guo,FENG Zhao-yong,DOU Sheng-peng.STUDY ON ELECTRODEPOSITING
NANOSTRUCTURE MULTILAYERS[J].Journal of Tianjin University(Science and Technology),2001,34(2):261-264. |
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| Authors: | YAO Su-wei GUI Feng ZHANG Wei-guo FENG Zhao-yong DOU Sheng-peng |
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| Abstract: | In this paper Cu/Ni multilayers were prepared by using single-bath and double-bath methods respectively.The technological conditions were studied,and the multilayer structure was studied by using Auger and SEM.In addition,on the basis of experiment,the single-bath and double-bath methods were compared. |
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| Keywords: | electrodeposit multilayer nanostructure |
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