| 半导体生产废水处理技术研究 |
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| 引用本文： | 罗德春,黄宇广.半导体生产废水处理技术研究[J].西安科技大学学报,1999(1). |
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| 作者姓名： | 罗德春 黄宇广 |
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| 作者单位： | 1. 西安公路交通大学,建筑与环境工程系,西安710064
2. 西安市环保研究所,西安710061 |
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| 摘 要： | 作用根据实验研究，提出了半导体生产废水处理的氯酸钠化学氧化法和硫酸铝吸附共沉淀法，并说明了有关处理条件。
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| 关 键 词： | 半导体 氯酸钠 化学氧化 硫酸铝 吸附共沉淀 |
STUDY ON THE WASTEWATER TREATMENT PROCESS OF SEMICONDUCTOR FACTORY |
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| Luo Dechun,Huang Yuguang.STUDY ON THE WASTEWATER TREATMENT PROCESS OF SEMICONDUCTOR FACTORY[J].JOurnal of XI’an University of Science and Technology,1999(1). |
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| Authors: | Luo Dechun Huang Yuguang |
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| Abstract: | Based on experimental research,the author recommends the chemical oxidation with sodium chlorate and the adsorption precipitation with aluminium sulfate for the wastewater treatment of semiconductor factory.Some treatment conditions are put forward. |
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| Keywords: | semiconductor sodium chlorate chemical oxidation aluminium sulfate adsorption precipitation |
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