对集成电路布图设计立法保护模式的分析与思考 |
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作者姓名: | 上超望 |
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作者单位: | 华中师范大学信息技术系,湖北武汉,430079 |
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摘 要: | 本文从集成电路立法保护的核心,布图设计立法保护的“交叉”模式以及此模式对计算机软件保护的启发意义三个方面进行了论述,并得出结论:布图设计立法保护的“交叉”保护模式适应并促进了集成电路工业的发展,同样具有“交叉”性特点的计算机软件也应当按照这种“交叉”保护模式单独创建一部单行法规。
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关 键 词: | 立法保护 集成电路 布图设计 知识产权 计算机软件 “交叉“保护模式 |
文章编号: | 1006-7353(2002)02-0006(02)-04 |
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