| 交流阻抗技术研究巯基丙酸/中性红修饰电极上DNA的响应 |
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| 引用本文： | 顾海芳,尹凡,屠一锋. 交流阻抗技术研究巯基丙酸/中性红修饰电极上DNA的响应[J]. 苏州科技学院学报(自然科学版), 2008, 25(2): 37-40 |
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| 作者姓名： | 顾海芳 尹凡 屠一锋 |
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| 作者单位： | 1. 苏州大学化学化工学院,江苏苏州,215123
2. 常熟理工学院化学与材料科学系,江苏常熟,215500 |
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| 摘 要： | 中性红(NR)可吸附在巯基丙酸自组装修饰金电极表面,并进而与DNA发生嵌插作用.以交流阻抗技术研究了DNA在巯基丙酸自组装/中性红修饰电极上的响应.结果表明,交流阻抗方法不仅可以反映DNA与小分子间发生的作用,还可以对DNA进行定量分析,响应在DNA浓度为0.4～8mg·L-1范围内呈线性关系,相关系数r=0.9973,检出下限为0.03 mg·L-1.该法是一种快速、简便、廉价的研究DNA及与小分子相互作用的方法.
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| 关 键 词： | 交流阻抗 巯基丙酸 中性红 DNA 嵌插作用 交流阻抗 技术研究 巯基丙酸 中性红 修饰电极 响应 Acid Response Studies Technique AC Impedance Modified Electrode 分子相互作用 廉价 快速 检出下限 相关系数 线性关系 范围 浓度 |
| 文章编号： | 1672-0687(2008)02-0037-03 |
| 修稿时间： | 2008-01-19 |
Studies on the Response of Mercaptopropionic Acid/Neutral Red Modified Electrode to DNA by AC Impedance Technique |
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| Gu Hai-fang,Yin Fan,Tu Yi-feng. Studies on the Response of Mercaptopropionic Acid/Neutral Red Modified Electrode to DNA by AC Impedance Technique[J]. Journal of University of Science and Technology of Suzhou, 2008, 25(2): 37-40 |
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| Authors: | Gu Hai-fang Yin Fan Tu Yi-feng |
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