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| 金刚石膜的生长特性及界面结构研究 | |
| 作者姓名： | 于三 |
| 作者单位： | 吉林大学原子与分子物理研究所，吉林大学原子与分子物理研究所，吉林大学原子与分子物理研究所，吉林大学原子与分子物理研究所 长春 130023，长春 130023，长春 130023，长春 130023 |
| 摘 要： | 众所周知,金刚石具有优异的电学、热学及机械特性,气相合成金刚石方法作为一种新的金刚石合成技术具有广阔的发展前景。目前用各种化学气相沉积(CVD)方法已合成出了具有不同用途的金刚石膜。随着气相合成金刚石薄膜制备与应用研究的发展,人们在气相合成金刚石薄膜的机理研究和物性研究方面作了许多工作,其中Williams等人对微波CVD |
| 关 键 词： | 薄膜 金刚石 生长特性 界面结构 |
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